負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器采用化學(xué)法現(xiàn)場制備二氧化氯并同時進行投加的設(shè)備
器在柜式發(fā)生器內(nèi)。T70G4000生成CLO2(二氧化氯)的反應(yīng)物:NaCLO2(亞氯酸鈉)+
HCL(鹽酸)
T70GT4000生成CLO2的反應(yīng)物:NaCLO2+CL2(氯氣)
95%以上
性更高
壓力水流經(jīng)水射器生成負(fù)壓
發(fā)生器的反應(yīng)物
發(fā)生量由流量計本身帶的手動閥控制
出的二氧化氯溶液流過一個觀察鏡
量計的反應(yīng)物由一個三個閥座的CHLOROMATIC閥控制
劑量比
負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 特 點
負(fù)壓法二氧化氯發(fā)生器 技術(shù)參數(shù)
T70GC4000 350g/h~9kg/h
HCL 8.5%(88g/L,у=1.04)
HCL 32%(371g/L,у=1.16) NaCLO 14%(у=1.20)
CLO2(1g)←→NaCLO2(4.25mL)+HCL2(0.55gg)
2.自動手動切換SPDT觸點(1)
3.低真空觸點SPDT觸點(1)(選擇項)
4.反應(yīng)物缺乏報警SPDT觸點(2)
注:反應(yīng)物中不能含有氫氟酸 。從反應(yīng)物容器至發(fā)生器管路上應(yīng)安裝過濾器 。二氧化氯發(fā)生器投加系統(tǒng)控制方式 對控制系統(tǒng)配置選擇殘余量及復(fù)合環(huán)路控制需另配分析儀表和外部控制器,系統(tǒng)配置設(shè)計請咨詢上海費波自控技術(shù)有限公司 。 A.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 B.水流量變化和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 手動控制 流量比例控制C.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 D.水流量變化和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 二氧化氯殘余量負(fù)反饋控制 二氧化氯殘余量和水流量復(fù)合環(huán)控制
二氧化氯發(fā)生器投加系統(tǒng)控制方式
對控制系統(tǒng)配置選擇殘余量及復(fù)合環(huán)路控制需另配分析儀表和外部控制器,系統(tǒng)配置設(shè)計
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A.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程 B.水流量變化和被氧化物質(zhì)穩(wěn)定的工藝過程
手動控制 流量比例控制
C.水流量穩(wěn)定和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程 D.水流量變化和被氧化物質(zhì)不穩(wěn)定的工藝過程
二氧化氯殘余量負(fù)反饋控制 二氧化氯殘余量和水流量復(fù)合環(huán)控制
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